拓荆科技(688072)：薄膜+混合键合加速放量 盈利向好

拓荆科技2025 全年实现营收65.19 亿元（yoy+58.87%），归母净利9.27亿元（yoy+34.67%），收入略超我们预期（64.83 亿元）。26Q1 实现营收11.12 亿元（ yoy+56.97% ， qoq-51.61% ） ， 归母净利5.71 亿元（yoy+488.29%，qoq+54.13%），单季度毛利率同比提升21.80pct/环比提升3.67pct 至41.69%。公司已实现全系列PECVD 介质薄膜材料的覆盖，ALD 多款设备持续扩大量产规模，先进键合设备及配套使用的量检测设备处于加速增长阶段。截至2025 年末，公司在手订单金额约为110 亿元，为公司后续收入持续增长奠定了坚实的基础。我们看好未来公司新签订单及营收延续高增势头，利润逐步释放，维持买入。


　　25 业绩高增，薄膜、键合等新品放量；1Q26 利润大幅增长公司2025 实现营收65.19 亿元（yoy+58.87%），1）PECVD 系列设备收入51.42 亿元（yoy+75.27%，占比78.88%），主要系先进逻辑、存储的产品批量进入规模化量产并实现收入转化；2）ALD 设备收入3.01 亿元（yoy+191.82%，占比4.62%），主要系PE-ALD SiO2、SiN、SiCO 等多款设备量产规模提升；3）混合键合设备收入1.36 亿元（yoy+41.92%，占比2.09% ） 。受益于营收高增及成本管控， 归母净利9.27 亿元（yoy+34.67%）。26Q1 公司营收11.12 亿元（yoy+56.97%，qoq-51.61%），归母净利5.71 亿元（yoy+488.29%，qoq+54.13%），扣非净利1.02 亿元。


　　薄膜沉积设备工艺覆盖面不断扩大，先进逻辑、存储设备逐步放量公司进一步扩大PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD 以及FlowableCVD薄膜沉积设备覆盖面，可支撑逻辑、存储芯片100 多种工艺，在客户端累计流片量突破4.57 亿片，2025 年单年突破2.1 亿片。公司新型PECVD Stack（ONO 叠层）、ACHM、PECVD Bianca 等先进设备实现产业化放量，Lok-II、OPN、SiB 等先进工艺设备通过客户验证，持续获得复购订单。公司ALD设备在存储芯片、逻辑芯片制造领域量产规模快速攀升，25 年末累计出货超过140 个反应腔，其中PE-ALD 多款SiO2、SiN、SiCO 工艺设备客户端放量；Thermal-ALD 陆续获得订单、出货，首台TiN 通过客户验证。


　　键合及配套设备陆续出货，应用于先进存储、逻辑、CIS 等目前公司已覆盖先进存储、逻辑、图像传感器等客户，致力于为三维集成领域提供全面的技术解决方案。1）公司WtoW 混合键合设备获得复购订单并实现量产应用，同时拓展应用至不同客户并通过验证，新一代高速高精度WtoW 混合键合产品已发货至客户端验证。2）首台WtoW 熔融键合产品已完成先进逻辑客户验证；3）DtoW 键合前表面预处理产品Propus 已实现产业化，持续获得重复订单；4）DtoW 混合键合产品正在客户端进行验证；5）键合套准精度量测产品、键合强度检测产品已通过客户验证，实现产业化应用；6）公司已完成对永久键合后晶圆激光剥离产品研制。


　　盈 利预测与估值


　　考虑到公司新品持续导入，我们维持2026-2027 年营业收入84.5/110.0 亿元，因公司盈利水平向好，上修公司2026-2027 年归母净利润4.78%/0.29%至16.9/21.6 亿元。下游晶圆厂扩产需求旺盛，半导体设备高景气，近期板块估值整体抬升，2026 年行业 PS 均值为 12.0 倍，考虑到公司薄膜沉积、键合等设备新品进展顺利，截至2025 年末，公司在手订单金额约为110 亿元保障未来持续增长，我们基于 18x 26PS 给予目标价 538.20 元（前值：


　　390.74 元，基于 13x 26PS），维持“买入”。


　　风险提示：全球半导体下行周期，设备需求不及预期，行业竞争加剧。

□.郭.龙.飞./.吕.兰.兰./.汤.仕.翯    .华.泰.证.券.股.份.有.限.公.司